주식회사 아인스

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인재경영 TALENT MANAGEMENT: 아인스는 능력있는 당신을 기다립니다.

표면처리

새로운 디스플레이 시대를 준비하는 기업, (주)아인스

보유기술 표면처리 주요 제품 가공

아인스의 핵심 경쟁력, ANODIZING

Anode양극

Oxidation산화

양극에서 산화되다.

전기화학 반응을 통하여 산화물 피막을 인위적으로 생성 → 가혹한 환경을 견딜 수 있도록 내구성 강화

공정

STEP 01

Degreasing

가공 절삭유, 유지 등 유기 오염물 제거
STEP 02

Etching

산막화 제거, 표면 활성화 및 표면 결함 제거
STEP 03

Desmutting

금속 합금 성분(Smut) 제거
STEP 04

Anodizing

산화 피막 형성
STEP 05

Sealing

봉공처리 - 내식성 강화

보유 기술

보유 기술
기술	특성	적용 제품
E2 coating	Dry Etch 공정 진행중 Plasma Damage로 발생되는 Crack 최소화 (특허 보유)	Dry Etch Parts
CO coating	고온 공정중에 발생되는 Crack 억제	Dry Etch Parts / CVD Parts
FOC coating	Particle 및 Arcing 발생 방지	Dry Etch Parts / CVD Parts
Protective coating	알루미늄 모체 손상 최소화 목적, Alfx 반응물 생성 방지 효과 (특허 보유)	Dry Etch Parts / CVD Parts
E-cleaning	Diffuser Hole 내부 AlFx막 제거에 용이한 Cleaning (특허 진행중)	CVD Parts
전선 연속 아노다이징	알루미늄 연선을 연속적으로 아노다이징 처리하는 기술 (특허 보유)	송전선

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대검찰청 인터넷범죄수사센터 (http://icic.sppo.go.kr)
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